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作者(zhě):JXSCWJ 發布時間(jiān):2017-07-13 18:45:42 瀏覽次數 :
1. 化學蝕刻分類:蝕刻技術可以分為濕(shī)蝕刻(kè)(wet etching)和(hé)幹蝕刻(dry etching)兩類。
2.概念定義:蝕刻是將材料使用化學反應或(huò)物理撞擊作用而移除的技術。
3化學蝕刻原理:
通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻(photochemical etching),指通過曝(pù)光製版、顯影後,將要蝕刻區域的保護摸去處,在蝕刻(kè)時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作(zuò)用,形成凹凸或者鏤(lòu)空成型的效果。
最早可用來製造銅版、鋅版等印(yìn)刷凹凸版,也廣泛地被使用於減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,名牌及(jí)傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加(jiā)工;經過不斷改良和工藝設備發展(zhǎn),亦可以用於航空、機械、化學工業中電子薄(báo)片零件(jiàn)精(jīng)密蝕刻產品(pǐn)的加工,特別在半導體製程上,蝕刻更是不可或缺的技術。如圖:
4.工藝流程:清洗板材(不鏽鋼其它金屬材料)---烘幹---塗布---曝光--- 顯影--蝕刻--脫膜,--烘幹--包裝
5.注意事項:
側蝕(shí)產生突沿,通常印製(zhì)板在蝕刻液中的時間越長,側(cè)蝕越嚴重。側蝕嚴重影響印製導線的精度,嚴(yán)重側蝕將使製作精(jīng)細導線成為不可能。當側蝕和突沿降低時,蝕刻係數就升高,高的蝕刻係數表示有保持細導線的能力,使蝕刻後的導線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是(shì)錫-鉛合金,錫,錫-鎳(niè)合金或鎳,突沿(yán)過度都會造成導線短路。因為突沿容易斷裂下來,在導線的兩點之間形成電的橋接。
在(zài)連續的板子蝕刻中,蝕刻速率越一致,越能獲(huò)得(dé)均勻蝕刻的板子。要達到這一要求,必須保證蝕刻液(yè)在蝕刻的全過程始終保持在最佳(jiā)的蝕刻狀態。這就要(yào)求選擇容易再生和補償,蝕刻速率容易控製的蝕刻液。選用能提供恒定的操作條件和對各種溶液(yè)參數(shù)能自動控(kòng)製的工藝和設備。通過控製溶銅量,PH值,溶液的濃度,溫度,溶液流量的均勻性(噴淋係統或噴嘴(zuǐ)以及噴嘴的擺動)等來實現。
板子上下兩麵以及板麵(miàn)上各個部位的蝕刻均勻(yún)性(xìng)是由板子表麵受到(dào)蝕刻劑流量的均勻性決定的。
蝕刻過程中,上下板麵的蝕刻速率往往不(bú)一致。一般來說,下板麵(miàn)的蝕刻速率高於(yú)上板麵。因(yīn)為上板麵有溶液的堆積,減弱了蝕刻反應的進行。可以通過調整(zhěng)上下(xià)噴嘴的噴啉壓力來解決上下板麵蝕刻不(bú)均的現象。蝕(shí)刻印製板的一個普遍問題是在相同時間裏(lǐ)使全部板(bǎn)麵都蝕刻幹淨是很難做到的,板子(zǐ)邊緣比板子中心(xīn)部位蝕刻的(de)快。采用噴淋(lín)係統並使噴嘴擺動是一個有效的措施。更(gèng)進一步的改善可以通過(guò)使(shǐ)板中心和板邊(biān)緣處的噴淋壓力不同,板前(qián)沿和板後端(duān)間歇蝕刻的(de)辦法,達到整個板麵的蝕刻均勻性
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